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在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域，深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司憑借其專注的精神和強(qiáng)大的實力，成為了眾多企業(yè)的信賴之選。

2003年，方達(dá)研磨的創(chuàng)始人開始研究KEMET平面研磨和拋光技術(shù)，小批量自主生產(chǎn)了380，460等小型單面研磨拋光機(jī)。這可以說是方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域邁出的第一步。那時的他們，就像在黑暗中摸索的前行者，雖然前方的道路并不清晰，但卻充滿了對技術(shù)突破的渴望。

2005年，方達(dá)研磨迎來了一次重要的發(fā)展。他們開始研發(fā)出一些適用范圍更廣的設(shè)備，如610,910單面研磨拋光機(jī)。這些設(shè)備的出現(xiàn)，為陶瓷平面研磨機(jī)加工帶來了新的可能性，就像是給這個領(lǐng)域注入了一股新的活力。

2006年，方達(dá)研磨再次取得了重大突破，成為國內(nèi)研發(fā)出研磨液，拋光液，研磨盤的廠家。液體12種，盤5種，適用于各種材料的研磨和拋光。這一成就，讓方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域站穩(wěn)了腳跟。

2007年，方達(dá)研磨這個品牌正式成立。同年，方達(dá)第一款帶修面的雙面研磨設(shè)備投入生產(chǎn)。這一設(shè)備的誕生，標(biāo)志著方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工技術(shù)上的又一次提升。

2009年，方達(dá)研磨進(jìn)行了一次研磨技術(shù)更新，研發(fā)出了針對12寸硅片的減薄機(jī)和CMP拋光機(jī)。這是國內(nèi)第一家研發(fā)和生產(chǎn)半導(dǎo)體晶圓減薄機(jī)和化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)的廠家，為后續(xù)市場該兩種設(shè)備的發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。這一創(chuàng)新，讓方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域走在了前列。

2012年，為了適應(yīng)市場的需求，方達(dá)研磨研發(fā)了LED藍(lán)寶石減薄機(jī)，9104XA銅拋機(jī)和9104PA軟拋機(jī)。這些設(shè)備的出現(xiàn)，滿足了不同客戶對于陶瓷平面研磨機(jī)加工的需求。

2014年，為了配套設(shè)備，方達(dá)研磨研發(fā)出了針對藍(lán)寶石專用的研磨盤，拋光墊，研磨液和拋光液。這一系列的配套產(chǎn)品，進(jìn)一步提升了方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域的競爭力。

2018年，順應(yīng)市場需求，方達(dá)研磨組建國內(nèi)打造國內(nèi)第一臺全自動晶圓研磨機(jī)，用于4/6/8/12英寸硅片的自動化生產(chǎn)，該設(shè)備于2020年正式投產(chǎn)，可替代disco8540和8560，打破國際壟斷。這一成果，讓方達(dá)研磨在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域的實力得到了更充分的展現(xiàn)。

2020年開始，方達(dá)研磨研發(fā)碳化硅全自動減薄工藝，氣浮主軸，雙頭減薄機(jī)等適用于第三代半導(dǎo)體的晶圓研磨設(shè)備，并于2021年成功問世和批量投產(chǎn)。

2021年，方達(dá)研磨生產(chǎn)了第一臺國內(nèi)集粗磨+精磨+拋光于一體的全自動晶圓磨拋機(jī)，可替代DISCO8761。

從2003年到2023年，方達(dá)研磨已經(jīng)走過了20年的歷程。在這20年里，他們始終專注于陶瓷平面研磨機(jī)加工技術(shù)的研發(fā)和創(chuàng)新。他們的設(shè)備，無論是平面度還是粗糙度，都能達(dá)到很高的標(biāo)準(zhǔn)。平面度可以做到0.1um，粗糙度可達(dá)0.2nm。

在陶瓷平面研磨機(jī)加工領(lǐng)域，選擇一家有實力的加工廠家至關(guān)重要。方達(dá)研磨不僅擁有先進(jìn)的技術(shù)和設(shè)備，還擁有一支高素質(zhì)的研發(fā)與管理團(tuán)隊。他們可以根據(jù)客戶的需求進(jìn)行非標(biāo)定制化，提供終身技術(shù)支持服務(wù)，幫助客戶不斷優(yōu)化研磨和拋光工藝。

如果你正在尋找一家有實力的陶瓷平面研磨機(jī)加工廠家，不妨考慮一下深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司。相信他們的專業(yè)和專注，一定能為你帶來滿意的加工效果。